碳酸锶提纯技术

【需求背景】 当前 AI 先进封装、TGV 玻璃基板产业快速扩容，5N 级高纯碳酸锶是制备 TGV 特种玻璃的核心刚需原料，用于匹配硅片热膨胀系数、降低高频信号损耗、提升基板机械强度，行业对原料纯度、微量杂质控制提出 ppb 级严苛标准。企业现有量产碳酸锶原料纯度仅≥98%，原料中钙、钡、镁、铁、重金属等杂质含量偏高，现有基础提纯工艺仅能达到 4N 及以下纯度，微量有害杂质难以深度脱除，无法满足半导体 TGV 玻璃基板高端应用准入指标。目前国内可稳定规模化量产 5N（≥99.999%）高纯碳酸锶的成套提纯技术壁垒高，相关工艺长期稀缺，制约企业切入半导体先进封装新材料赛道。结合企业中长期产业布局规划，亟需开发适配现有工业级碳酸锶原料的深度提纯成套工艺，打通从 98% 工业级原料到 5N 超高纯碳酸锶的规模化制备路线，稳定产出符合半导体 TGV 玻璃基板标准的超高纯碳酸锶产品，补齐高端电子锶盐材料自主供给短板，拓宽企业新材料高端应用市场。 【需解决的主要技术难题】 1.多类微量杂质深度协同脱除难题。工业碳酸锶原料共存钡、钙、镁、铁、碱金属及重金属多类杂质，常规沉淀、简单离子交换工艺仅可去除大部分常量杂质，微量杂质易通过共沉淀嵌入碳酸锶晶格，难以降至 ppb 级，无法实现纯度突破至 99.999%。需攻克多级选择性除杂体系，实现各类有害微量杂质同步深度脱除。2. 超高纯碳酸锶规模化提纯工艺稳定控制难题。实验室小试可实现 5N 纯度，但放大至连续化批量生产时，反应温度、pH、碳化速率、结晶环境微小波动均会造成杂质夹带、纯度大幅下滑；全流程超净密闭生产环境搭建、结晶粒度均匀性管控难度大，难以保障批次纯度一致性。3. 提纯工艺综合成本与产能平衡难题。传统多级萃取、间歇超净结晶工艺设备投入大、试剂消耗高、单批次产能低，规模化量产综合成本偏高；需优化连续化提纯路线，在满足 5N 纯度指标前提下控制生产成本，适配工业化连续大批量生产。4. 高纯粉体晶型、粒度适配 TGV 基板加工难题。提纯过程易出现粉体团聚、粒径分布宽、晶型不规则等问题，直接影响 TGV 玻璃熔融混匀效果与基板成品性能，需同步调控提纯结晶参数，兼顾超高纯度与粉体加工适配性。 【期望实现的主要技术目标】 a. 产品纯度指标：以现有纯度≥98% 工业碳酸锶为原料，经提纯后成品碳酸锶纯度≥99.999%（5N 级）；钡、钙、镁、铁、重金属等单项杂质总含量控制在 10ppm 以内，单项微量杂质≤1ppm。b. 量产适配能力：提纯工艺可连续化批量生产，单条产线年产能不低于百吨级，批次产品纯度离散度≤0.0005%。c. 粉体理化性能：高纯碳酸锶粉体分散性好、无严重团聚，粒度分布均匀，晶型稳定，可直接用于半导体 TGV 玻璃基板熔融制备工序。d. 工艺经济性：整套提纯工艺可依托现有产线适度改造落地，试剂、能耗综合生产成本可控，具备市场化竞争优势。e. 产品合规性：成品各项指标满足先进封装 TGV 玻璃基板行业原料准入标准，可替代进口 5N 高纯碳酸锶材料。f. 技术成套化：形成包含原料预处理、多级选择性除杂、超净连续碳化、精密结晶、密闭分离干燥全流程标准化提纯工艺与质量控制体系。 【技术需求】 ](https://www.kczg.org.cn/needs/index?type=1) — 采集元信息 — 需求单位：马鞍\*\*\*公司 所在地区：安徽省 马鞍山市 雨山区 合作方式：委托开发 预算：¥50万 截止日期：2026-11-30 发布日期：2026-07-13 数据来源：科创中国 来源链接：https://www.kczg.org.cn/needs/detailThe?type=1&id=8423037