光刻胶关键原材料的开发

LCD(显示屏)和半导体(芯片)的制造过程｡光刻胶处于各行业产业链上游,具有举足轻重的地位｡目前全球光刻胶基本由日本寡头垄断,JSR､东京应化､信越化学､富士电子材料四家市占率高达72%,中国大陆份额不足10%｡严重制约我国光刻胶及相关产业的发展,因此,我国必须快速推进光刻胶产业及关键材料的国产化率,避免对产业链造成重创｡ 光刻胶由光引发剂､光刻胶树脂､单体､溶剂和其他助剂组成｡其中光引发剂是光刻胶的最关键成分,对光固化速度以及光刻胶的感光度､分辨率起着决定性作用｡ 肟酯类光引发剂因其具有优异的感光性能,其活性突出,在彩色滤光片膜(RGB)､黑色矩阵(BM)､光间隔物(photo-spacer)､肋栅(rib)等高端光刻胶领域中应用广泛,但目前被巴斯夫垄断,国内也有关于肟酯类光引发剂的专利,但其紫外吸收波长多在250-350nm,无法与日益发展的LED光源匹配,限制了肟酯类光引发剂的应用｡开发与LED光源相匹配的高端光引发剂,应用于光刻胶领域,性能优于巴斯夫 — 采集元信息 — 所在地区：湖北 合作方式：技术研发 数据来源：网络搜索 来源链接：https://chinasme.org.cn/upload/1/cms/content/editor/1691733696599.pdf